Perkembangan industri semikonduktor China kembali menjadi perhatian setelah startup Langdao Silex memperkenalkan prototipe sumber cahaya extreme ultraviolet atau EUV dalam pameran industri di Shanghai pada Oktober 2026. Perangkat bernama FlintNano LPP-OXXO ini dikembangkan untuk mendukung penelitian litografi yang menjadi bagian penting dalam pembuatan chip canggih. Perusahaan mengklaim sistem tersebut mampu menghasilkan daya EUV lebih dari 15 watt dengan sekitar 90 persen komponen berasal dari dalam negeri. Meski masih berada pada tahap pengembangan dan belum terbukti siap untuk produksi chip massal, inovasi ini menunjukkan upaya China memperkuat kemandirian TEKNOLOGI semikonduktor di tengah persaingan industri global.
Pengembangan Teknologi EUV Lokal China Memasuki Tahap Prototipe
Pengembang perangkat semikonduktor dari China, Langdao Silex, memperkenalkan perangkat penghasil cahaya EUV eksperimental dalam ajang industri yang berlangsung di Shanghai pada Oktober 2026. Sistem yang dikembangkan perusahaan memperlihatkan perkembangan pengembangan peralatan semikonduktor dalam negeri. Berdasarkan klaim pengembang, sekitar 90 persen komponen yang digunakan telah dilokalkan. Sebagian besar komponen inti juga dihasilkan melalui pengembangan dalam negeri. Pencapaian tersebut menjadi indikator perkembangan penelitian semikonduktor China, meskipun masih membutuhkan validasi lebih lanjut.
Langdao Silex memfokuskan pengembangan perangkat EUV sebagai bagian strategis peralatan pembuatan chip. Sumber cahaya ini merupakan salah satu subsistem terpenting pada peralatan litografi canggih. Jika sistem penghasil EUV belum mencapai kestabilan yang diperlukan, proses pencetakan pola sangat kecil akan menghadapi keterbatasan. Namun demikian, pengembangan satu subsistem litografi tidak sama dengan keberhasilan membangun mesin EUV lengkap. Oleh sebab tersebut, hasil penelitian tersebut harus dibedakan dari kemampuan produksi industri.
Teknologi Laser dan Plasma Menjadi Dasar Sistem EUV
Sistem litografi EUV memanfaatkan cahaya dengan panjang gelombang sekitar 13,5 nanometer. Panjang gelombang yang sangat pendek mendukung proses pemindahan rancangan transistor ke wafer silikon. Pada proses produksi chip, bahan photoresist pada permukaan wafer dipaparkan menggunakan rancangan optik. Tahapan berikutnya menggunakan rangkaian proses untuk menghasilkan fitur semikonduktor. Dengan teknologi yang tepat, produsen dapat membentuk struktur chip yang semakin kompleks. Namun, kemampuan produksi ditentukan oleh banyak komponen sistem.
Prototipe Langdao Silex dikembangkan berdasarkan metode LPP. Melalui pendekatan pembentukan plasma menggunakan laser, laser kuat ditembakkan menuju droplet timah. Paparan laser tersebut menghasilkan kondisi plasma berenergi besar yang melepaskan energi dalam bentuk radiasi EUV. Cahaya yang dihasilkan kemudian harus diarahkan menggunakan komponen pemantul berpresisi tinggi. Hal ini diperlukan karena EUV memiliki karakteristik penyerapan yang tinggi. Karena alasan tersebut, penggunaan radiasi tersebut memerlukan ruang dengan tekanan sangat rendah serta cermin khusus dengan tingkat presisi tinggi.
Mengukur Kinerja Sistem EUV melalui Daya dan Kestabilan
Berdasarkan spesifikasi yang dilaporkan, FlintNano LPP-OXXO dikembangkan dengan kemampuan menghasilkan daya di atas 15 watt. Angka tersebut menjadi indikator awal kemampuan sumber cahaya. Namun demikian, angka tersebut belum cukup membuktikan kesiapan untuk manufaktur massal. Salah satu persoalan penting adalah metode pengujian daya EUV. Pengukuran langsung pada bagian penghasil radiasi tidak selalu sama dengan daya yang mencapai sistem optik berikutnya. Karena itu, klaim performa harus dipahami sesuai metode pengujiannya.
Di samping kemampuan menghasilkan cahaya, stabilitas sumber cahaya menentukan kualitas operasional. Data awal sistem FlintNano melaporkan parameter stabilitas plasma sebesar 3 persen RMS dan parameter stabilitas daya pada kisaran 5 persen. Nilai tersebut memberikan petunjuk mengenai konsistensi sistem, tetapi belum cukup untuk menilai kesiapan produksi massal. Pada produksi wafer berskala besar, sistem perlu menghasilkan radiasi dengan stabilitas tinggi. Fluktuasi yang berlebihan dapat menurunkan konsistensi hasil pencetakan. Atas dasar kebutuhan tersebut, evaluasi operasional yang menyeluruh menjadi langkah penting berikutnya.
Tantangan Pengembangan Mesin Litografi EUV Buatan China
Pengembangan sumber cahaya EUV belum mewakili keseluruhan dari peralatan produksi wafer berbasis EUV. Sistem eksposur wafer komersial harus mengintegrasikan banyak komponen kompleks. Tidak hanya pada bagian pembentukan radiasi, arsitektur litografi membutuhkan komponen optik berakurasi tinggi. Sistem penggerak wafer juga memerlukan kontrol posisi yang sangat akurat ketika pola dipindahkan ke permukaan silikon. Sebagai bagian dari keseluruhan sistem, masker litografi, photoresist, dan pengendalian kontaminasi memiliki peranan yang tidak kalah penting.
Hambatan teknis berikutnya adalah meningkatkan sistem laboratorium menuju produksi komersial. Peralatan produksi semikonduktor harus mempertahankan kestabilan dalam pengoperasian panjang. Sumber cahaya EUV dituntut mempertahankan keluaran radiasi yang cukup sambil mengendalikan panas dan partikel. Ketika kestabilan operasional belum memenuhi kebutuhan, produktivitas mesin berpotensi menurun. Karena itu, pengembangan sistem sampai siap dipakai industri harus melewati proses validasi yang panjang. Estimasi waktu komersialisasi sekitar tiga sampai lima tahun yang disebutkan dalam pembahasan prototipe tersebut perlu dipahami sebagai perkiraan.
Dampak Inovasi EUV terhadap Pengembangan Chip Canggih
Upaya menciptakan sumber cahaya semikonduktor lokal memiliki hubungan dengan dinamika perdagangan semikonduktor. Dalam industri manufaktur canggih, perusahaan Belanda ASML memiliki posisi utama dalam penyediaan mesin EUV komersial. Teknologi tersebut menjadi bagian penting dalam pabrik chip mutakhir. Di sisi lain, pembatasan penjualan peralatan tertentu membatasi kemampuan pembelian sejumlah peralatan produksi. Dinamika kebijakan tersebut meningkatkan kebutuhan penelitian teknologi domestik. Walaupun terdapat kemajuan penelitian, menggantikan keseluruhan ekosistem pemasok global tetap menjadi tantangan besar.
Jika dilihat dari sisi pengembangan teknologi, prototipe Langdao Silex dapat memiliki manfaat sebelum digunakan di pabrik chip. Sistem penghasil EUV berpotensi mendukung eksperimen bahan sensitif cahaya serta evaluasi masker dan komponen optik. Sebagai contoh, tim riset memerlukan fasilitas pengujian berbasis EUV untuk mempelajari respons bahan terhadap penyinaran. Dengan tersedianya teknologi lokal, sebagian eksperimen dapat dilakukan tanpa bergantung penuh pada peralatan impor. Walaupun peluang penerapannya cukup luas, kemampuan sistem perlu dibuktikan sesuai persyaratan penelitian. Artinya, manfaat sistem dapat muncul lebih awal pada kegiatan riset.
Masa Depan Teknologi Litografi EUV Buatan China
Pengembangan perangkat penghasil radiasi EUV oleh startup China menunjukkan langkah baru dalam strategi meningkatkan kemampuan litografi dalam negeri. Berdasarkan keterangan mengenai tingkat komponen lokal sekitar 90 persen serta keluaran daya lebih dari 15 watt, sistem ini memperlihatkan capaian pada tahap penelitian. Meskipun demikian, teknologi tersebut belum terbukti siap untuk produksi massal. Berbagai komponen lain tetap harus dikembangkan secara menyeluruh. Dengan demikian, kemajuan satu komponen belum berarti tersedianya peralatan produksi chip lengkap.
Di kalangan pengamat industri TEKNOLOGI, inovasi Langdao Silex memberikan gambaran mengenai kompleksitas industri semikonduktor. Pencapaian awal ini berpotensi mendukung ekosistem penelitian sebelum mencapai tahapan produksi industri. Ke depan, peningkatan kemampuan daya, ketepatan rekayasa mesin, serta hasil pengujian independen menjadi dasar penilaian kemajuan. Apa pendapat Anda, apakah pengembangan sumber cahaya EUV lokal mampu mengurangi ketergantungan pada peralatan asing? Bagikan pandangan Anda mengenai perkembangan teknologi produksi chip.
